真空鍍膜設(shè)備
科技創(chuàng)新為動(dòng)力 專業(yè)服務(wù)為目標(biāo)真空鍍膜設(shè)備
光學(xué)鍍膜機(jī)
光學(xué)鍍膜機(jī)
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常規(guī)配置 ? 真空泵系統(tǒng) 低真空泵：旋片式機(jī)械泵（蒸壓機(jī)械泵：930m3 h-1） 高真空泵：擴(kuò)散泵（選擇：低溫泵或滑輪分子泵） ? 真空閥系統(tǒng) 型號：3/8”，2”，4”，22“ ? 真空室加熱系統(tǒng) 高溫度：0到400℃ 型號：滷素?zé)簦ㄟx擇：微型加熱器） 基片型號：球面型或行星型 轉(zhuǎn)速：0到30轉(zhuǎn)速/分 軟起，軟停，可調(diào)速瀘 ? 電子控制系統(tǒng) 型號：計(jì)算機(jī)控制面板 可修改和改變?nèi)魏涡枰目刂?br /> 全程控制鍍膜以達(dá)到產(chǎn)品所需的要求 提供所需要的技術(shù)信息 ? 真空計(jì)系統(tǒng) 高真空感應(yīng)器：2 低真空感應(yīng)器：1 |
選擇配置 ? 薄膜沉積控制系統(tǒng) 沉積控制：IC-5 （INFICON） MDC360 （MAXTEK）等等 石英晶髓感應(yīng)器:1，2，6頭 ? 光控離子源 無柵型：直流型 燈絲型：直流型，頻射型 ? 電子束源 容量：15cc，25cc，40cc等等 偏轉(zhuǎn)角度：180度或270度 坩鍋：4，6，8倜等等 ? 深冷系統(tǒng) 除霜室 擴(kuò)散泵 ? 水冷卻系統(tǒng) 水或氣冷卻器 |
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